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    Différents types d'analyse : SIMS : Secondary ions mass spectrometry - TOF-SIMS : Time of flight SIMS - XPS : X-ray photoelectron spectrometry - RBS : Rutherford back scattering - ECVP : Electrochemical capacitance voltage profiling...

    Différents types d'analyse : SIMS: Secondary ions mass spectrometry - TOF-SIMS: Time of flight SIMS - XPS: X-ray photoelectron spectrometry - RBS: Rutherford back scattering - ECVP: Electrochemical capacitance voltage profiling...

Chiffres et ordres de grandeur

SIMS dynamique Limite de détection 1ppm-1ppb
Gamme de masses usuelle 1uma-300uma
Profondeur d'un profil 10nm-100µm
Résolution en profondeur 1nm-20nm
Surface analysée (diamètre) 20µm-500µm
XPS/ECSA Limite de détection 0,1at%
Eléments détectés Tous sauf H et He
Profondeur sondée (sans abrasion) 10nm
Surface analysée minimale (diamètre) 10µm
ToF-SIMS Limite de détection 1ppm
Gamme de masses 1uma-10000uma
Profondeur sondée (sans abrasion) 1nm
Résolution spatiale en imagerie 0,1µm
RBS Limite de détection 1at%
Gamme de masses M>10uma
Epaisseur sondée 3nm-3µm
ECVP Limite de détection 1ppm-1ppb
Profondeur d'un profil 10nm-10µm
Surface analysée (diamètre) 1mm-3mm
FIB-TEM Résolution spatiale en imagerie 0,1nm
Chiffres et ordres de grandeur des différentes techniques d'analyse